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砷化镓晶片

GaAs WAFER

砷化镓晶片

      半导体材料可细分为衬底、靶材、化学机械抛光材料、光刻胶、电子湿化学品、电子特种气体、封装材料等。其中,衬底是半导体材料领域的关键材料之一。砷化镓(GaAs)作为第二代半导体衬底材料的代表,是全球用途最广泛、生产量最大的化合物半导体材料,也是继硅(Si)材料之后最重要的微电子材料之一。由于砷化镓具有本征载流子浓度低、光电特性好、电子迁移率高(是硅的5-6倍)、禁带宽度大(1.43eV,硅为1.1eV)且为直接带隙,容易制成射频器件和光电子器件,用砷化镓制成的射频器件具有高频、性能好、噪声小、抗辐射能力强等优点,能够满足多种场景需求。

 

      我公司根据客户需求,生产2英寸至6英寸砷化镓晶片。分为LED晶片、激光LD晶片、微波晶片。晶片可加工为单面或双面抛光,激光刻字,单片或卡塞包装,开盒即用。

GaAs WAFER

应用领域

      当前,砷化镓广泛应用于智能手机、光纤通信、卫星通讯、LED显示与太阳能电池等领域。砷化镓衬底分为半绝缘型和半导体型,其中半绝缘型砷化镓主要用于制作射频器件,与射频器件相关的芯片多数由镓砷基衬底制造而来,射频芯片是无线通信的核心部件,是天线和基带之间的组件,包括功率、放大器、射频开关、射频滤波器、低噪音放大器等。半导体型砷化镓主要用于制作光电子器件,包括LED、激光器等。随着5G通信、新一代显示(MiniLED、MicroLED)、可穿戴设备等新兴市场的驱动,砷化镓的市场规模正持续扩大。VCSEL芯片先是在2015年被引入苹果手机内,后是逐渐应用到汽车领域,用于监控驾驶员状态、疲劳驾驶等,预计2027年全球市场规模可达40亿美元。

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